際際滷

際際滷Share a Scribd company logo

Heer Agricola

T
Themadagen
1 of 11
Downloaded 19 times
Wanneer is een cleanroom nodig? Koos Agricola Cleanroom Contamination Control Solutions 10 maart 2011 Koos Agricola 1 Inhoud Kwetsbaar product Wat is een cleanroom? Cleanroom classificaties Contaminatie van een kwetsbaar product Product analyse Voorbeeld Maatregelen om het product te beschermen Noodzaak van een cleanroom Conclusie 10 maart 2011 Koos Agricola 2
Kwetsbaar product Functionaliteit product Verstoring functionaliteit product door ongewenste contaminatie van: Deeltjes soort (levend/dood, geleidend/isolerend) Deeltjes grootte en aantal Chemische componenten 10 maart 2011 Koos Agricola 3 Oorsprong verstoring Productie proces Contaminatie bij blootstelling Contaminatie via contactoverdracht Contaminatie door aangroei Onderdelen en bewerkingen Functies product defect Product Een bepaald oppervlak op bepaald moment. deeltjes Bronnen die leiden tot defecten neerslag aanstroming Contact Kwetsbaar oppervlak 10 maart 2011 Koos Agricola Verschillende onderdelen zijn op verschillende momenten gevoelig voor 4 deeltjescontaminatie. Een defect kan leiden tot het falen van een product functie.
Wat is een cleanroom? Doos schone lucht Op overdruk Sluizen Doorspoeld met gefilterde lucht Oppervlakken alleen schoon door reiniging Voorkomen of inpakken bronnen Ruimte geclassificeerd volgens ISO normen 14644/14698 van de TC 209 10 maart 2011 Koos Agricola 5 Cleanroom classificaties Reinheid Lucht Oppervlak Concentratie Deeltjes Mirco-organisemen (alleen in KVEs) Chemische componenten Nanodeeltjes 10 maart 2011 Koos Agricola 6
Cleanroom classificaties Lucht reinheid m.b.t. deeltjes Concentratie deeltjes in de lucht (m3) ISO 14644-1: Air cleanliness by particles (ACP) Cn = 10N/(10.d)2,08, d 0,1 袖m ISO 6, 106 0,1 袖m, -> 4.000 5 袖m per m3 10 maart 2011 Koos Agricola 7 Cleanroom classificaties Oppervlaktereinheid m.b.t. deeltjes Concentratie deeltjes op oppervlakken (m2) ISO 14644-9, Surface cleanliness by particles SCP N: An = 10N/d , d 1 袖m nd*d = constant SCP 5, 105 1 袖m, -> 20.000 5 袖m per m2 Proposed ISO 14644-9 Surface Cleanliness Classes 100.000.000 Max number of particles per m2 10.000.000 SPC Class 1 1.000.000 SPC Class 2 SPC Class 3 100.000 SPC Class 4 10.000 SPC Class 5 SPC Class 6 1.000 SPC Class 7 100 SPC Class 8 10 0,1 1 10 100 1000 10 maart 2011 Koos Agricola Particle size in 袖m 8
Cleanroom classificaties Reinheid lucht en oppervlakken mbt chemische componenten (moleculaire contaminatie) ISO 14644-8 ACC in log(gr/m3), -> negatieve klasse ISO 14644-10 SCC in log(gr/m2), -> negatieve klasse Vergelijkbare klassen worden voor nanodeeltjes en schadelijke micro-organismen (ISO 14698) worden ontwikkeld. 10 maart 2011 Koos Agricola 9 Contaminatie van een kwetsbaar product Vanuit het medium waarin het product zit: Lucht, gas Vloeistof Vaste stof Overdracht hangt samen de grootte, vorm en lading van een deeltje. Bij vaste stof is naast de reinheid de oppervlaktegesteldheid (ruwheid) en elasticiteitsmodulus en lading van belang 10 maart 2011 Koos Agricola 10
Contaminatie van een kwetsbaar product Overdracht deeltjes vanuit de lucht Zwevende deeltjes (d 5 袖m) Massatraagheid Lange tijd zonder stroming Vallende deeltjes (d 25 袖m) Afhankelijk aantal aanwezige deeltjes en activiteit Overgangsgebied (5 < d < 25 袖m) Overdracht deeltjes via contact met vaste stof 10 maart 2011 Koos Agricola 11 Deeltjesneerslag in cleanroom Deeltjesneerslag is de verandering van oppervlaktereinheid per werkuur Praktische aanpak aantal deeltjes > 5 袖m of 25 袖m per dm2 Drie gemiddelde deeltjesdeposities gedurende acht gewerkte uren 100 Aantal deeltjes per dm /uur 2 10 DNK 1.000 DNK 100 DNK 10 DNK 1 week 4 week 8 1 week 12 0,1 1 10 100 1000 10 maart 2011 Koos Agricola Deeltjesgroootte (袖m) 12
Product analyse Wanneer wordt de functionaliteit verstoort? Van kwaliteitsverlies tot direct falen Plaats in het product Soort deeltje Grootte deeltje Aantal deeltjes Wanneer is kwetsbare plaats blootgesteld? lucht, vloeistof contactoverdracht 10 maart 2011 Koos Agricola 13 Voorbeeld Digitale camera Functionele digitale fotos zonder defecten Sensor (beeldverwerking elektronica en software) Optiek (afbeelding lichtbeeld op sensor) Mechanische componenten (bediening, behuizing, focussering) 10 maart 2011 Koos Agricola 14
Assemblage digitale camera Sensor Optiek Mechanisch 10 maart 2011 Koos Agricola 15 Kritische oppervlakken Mechanisch deel grootste oppervlak (1 cm2), vallende deeltjes (dk> 50 袖m) Blootstelling 2,5 uur Optische deel kleiner oppervlak (40 mm2), kleinere deeltjes (dk > 10 袖m) Blootstelling 2 uur Sensor deel veel kleiner oppervlak (20 mm2), zwevende deeltjes (dk > 1 袖m) Blootstelling 1 uur 10 maart 2011 Koos Agricola 16
Gewenste oppervlaktereinheid Stel initi谷le oppervlaktereinheid is SCP 3 Stel dat max. 10 % kritische deeltjes/m2 toegestaan zijn. 10log(Nd*dk/A), Nd=0,1: Mechanisch deel: Nd*dk/A = 0,1*50/10-4= 5*104 -> SCP 4,7 Optische deel kleiner 0,1*10/(4*10-5) = 2,5*104 -> SCP 4,4 Sensor deel 0,1*1/(2*10-5)= 5*103 -> SCP 3,7 3 oktober2011 10 maart 2008 CGC Koos Agricola Koos Agricola 17 Minimale VCCN Deeltjes- Neerslag Klasse De deeltjesneerslag is de verandering van oppervlakte reinheid per dm2 per blootstellinguur DNK = (10 SCP-10SCP0)/(A*t), A in dm2 -> (10 SCP-4-10SCP0-4)/(A*t); M: DNK = (104,7-4-103-4)/(0,01*2,5) = M: DNK = (100,7-10-1)/(0,01*2,5) = 200 O: DNK = (100,4-10-1)/(0,004*2) = 300 S: DNK = (10-0,3-10-1)/(0,002*1) = 200 10 maart 2011 Koos Agricola 18
Benodigde cleanroom Mechanische delen: ISO 9 en DNK 200, Schone werkwijze het belangrijkst Optische deel: ISO 7 en DNK 300, Combinatie verdunning cleanroom en werkwijze Sensor deel: ISO 6 en DNK 200, Combinatie lokale verdringing cleanroom en werkwijze Door verkorting blootstellingtijd kan hogere DNK toegestaan worden. 10 maart 2011 Koos Agricola 19 Maatregelen om het product te beschermen Afhankelijk van gevoeligheid product en procesomstandigheden: Gevoelig voor vallende deeltjes Oppervlaktereinheid Aantal personen, kleding en discipline Blootstellingtijd * grootte oppervlak Ook gevoelig voor zwevende deeltjes Concentratie in de lucht (cleanroom ACP klasse) 10 maart 2011 Koos Agricola 20
Noodzaak van een cleanroom Deeltjes 25 袖m: ISO 9 + ISO 5 cleanroom werkwijzen Deeltjes 5 袖m: ISO 7, 8 cleanroom Deeltjes 1 袖m: ISO 5, 6 cleanroom Deeltjes 0,1 袖m: ISO 4 of beter, geen personen Naarmate het product gevoeliger is zullen de eisen voor de oppervlaktereinheid toenemen. 10 maart 2011 Koos Agricola 21 Conclusie Product analyse bepaalt kwetsbaarheid Proces bepaalt kwetsbare plaatsen en momenten Aparte schone ruimte biedt mogelijkheid deeltjes neerslag en contact overdracht te beperken Deeltjes 5, 25 袖m verwijderen door schoonmaken, classificatie oppervlaktereinheid en deeltjesneerslag niveau. Deeltjes 5 袖m verwijderen met luchtbehandeling, classificatie luchtreinheid. Zie artikel maart 2011 nummer VCCN Magazine Zie Strategisch strijden tegen stofdeeltjes (www.vccn.nl) 10 maart 2011 Koos Agricola 22

More Related Content

Heer Agricola

  • 1. Wanneer is een cleanroom nodig? Koos Agricola Cleanroom Contamination Control Solutions 10 maart 2011 Koos Agricola 1 Inhoud Kwetsbaar product Wat is een cleanroom? Cleanroom classificaties Contaminatie van een kwetsbaar product Product analyse Voorbeeld Maatregelen om het product te beschermen Noodzaak van een cleanroom Conclusie 10 maart 2011 Koos Agricola 2
  • 2. Kwetsbaar product Functionaliteit product Verstoring functionaliteit product door ongewenste contaminatie van: Deeltjes soort (levend/dood, geleidend/isolerend) Deeltjes grootte en aantal Chemische componenten 10 maart 2011 Koos Agricola 3 Oorsprong verstoring Productie proces Contaminatie bij blootstelling Contaminatie via contactoverdracht Contaminatie door aangroei Onderdelen en bewerkingen Functies product defect Product Een bepaald oppervlak op bepaald moment. deeltjes Bronnen die leiden tot defecten neerslag aanstroming Contact Kwetsbaar oppervlak 10 maart 2011 Koos Agricola Verschillende onderdelen zijn op verschillende momenten gevoelig voor 4 deeltjescontaminatie. Een defect kan leiden tot het falen van een product functie.
  • 3. Wat is een cleanroom? Doos schone lucht Op overdruk Sluizen Doorspoeld met gefilterde lucht Oppervlakken alleen schoon door reiniging Voorkomen of inpakken bronnen Ruimte geclassificeerd volgens ISO normen 14644/14698 van de TC 209 10 maart 2011 Koos Agricola 5 Cleanroom classificaties Reinheid Lucht Oppervlak Concentratie Deeltjes Mirco-organisemen (alleen in KVEs) Chemische componenten Nanodeeltjes 10 maart 2011 Koos Agricola 6
  • 4. Cleanroom classificaties Lucht reinheid m.b.t. deeltjes Concentratie deeltjes in de lucht (m3) ISO 14644-1: Air cleanliness by particles (ACP) Cn = 10N/(10.d)2,08, d 0,1 袖m ISO 6, 106 0,1 袖m, -> 4.000 5 袖m per m3 10 maart 2011 Koos Agricola 7 Cleanroom classificaties Oppervlaktereinheid m.b.t. deeltjes Concentratie deeltjes op oppervlakken (m2) ISO 14644-9, Surface cleanliness by particles SCP N: An = 10N/d , d 1 袖m nd*d = constant SCP 5, 105 1 袖m, -> 20.000 5 袖m per m2 Proposed ISO 14644-9 Surface Cleanliness Classes 100.000.000 Max number of particles per m2 10.000.000 SPC Class 1 1.000.000 SPC Class 2 SPC Class 3 100.000 SPC Class 4 10.000 SPC Class 5 SPC Class 6 1.000 SPC Class 7 100 SPC Class 8 10 0,1 1 10 100 1000 10 maart 2011 Koos Agricola Particle size in 袖m 8
  • 5. Cleanroom classificaties Reinheid lucht en oppervlakken mbt chemische componenten (moleculaire contaminatie) ISO 14644-8 ACC in log(gr/m3), -> negatieve klasse ISO 14644-10 SCC in log(gr/m2), -> negatieve klasse Vergelijkbare klassen worden voor nanodeeltjes en schadelijke micro-organismen (ISO 14698) worden ontwikkeld. 10 maart 2011 Koos Agricola 9 Contaminatie van een kwetsbaar product Vanuit het medium waarin het product zit: Lucht, gas Vloeistof Vaste stof Overdracht hangt samen de grootte, vorm en lading van een deeltje. Bij vaste stof is naast de reinheid de oppervlaktegesteldheid (ruwheid) en elasticiteitsmodulus en lading van belang 10 maart 2011 Koos Agricola 10
  • 6. Contaminatie van een kwetsbaar product Overdracht deeltjes vanuit de lucht Zwevende deeltjes (d 5 袖m) Massatraagheid Lange tijd zonder stroming Vallende deeltjes (d 25 袖m) Afhankelijk aantal aanwezige deeltjes en activiteit Overgangsgebied (5 < d < 25 袖m) Overdracht deeltjes via contact met vaste stof 10 maart 2011 Koos Agricola 11 Deeltjesneerslag in cleanroom Deeltjesneerslag is de verandering van oppervlaktereinheid per werkuur Praktische aanpak aantal deeltjes > 5 袖m of 25 袖m per dm2 Drie gemiddelde deeltjesdeposities gedurende acht gewerkte uren 100 Aantal deeltjes per dm /uur 2 10 DNK 1.000 DNK 100 DNK 10 DNK 1 week 4 week 8 1 week 12 0,1 1 10 100 1000 10 maart 2011 Koos Agricola Deeltjesgroootte (袖m) 12
  • 7. Product analyse Wanneer wordt de functionaliteit verstoort? Van kwaliteitsverlies tot direct falen Plaats in het product Soort deeltje Grootte deeltje Aantal deeltjes Wanneer is kwetsbare plaats blootgesteld? lucht, vloeistof contactoverdracht 10 maart 2011 Koos Agricola 13 Voorbeeld Digitale camera Functionele digitale fotos zonder defecten Sensor (beeldverwerking elektronica en software) Optiek (afbeelding lichtbeeld op sensor) Mechanische componenten (bediening, behuizing, focussering) 10 maart 2011 Koos Agricola 14
  • 8. Assemblage digitale camera Sensor Optiek Mechanisch 10 maart 2011 Koos Agricola 15 Kritische oppervlakken Mechanisch deel grootste oppervlak (1 cm2), vallende deeltjes (dk> 50 袖m) Blootstelling 2,5 uur Optische deel kleiner oppervlak (40 mm2), kleinere deeltjes (dk > 10 袖m) Blootstelling 2 uur Sensor deel veel kleiner oppervlak (20 mm2), zwevende deeltjes (dk > 1 袖m) Blootstelling 1 uur 10 maart 2011 Koos Agricola 16
  • 9. Gewenste oppervlaktereinheid Stel initi谷le oppervlaktereinheid is SCP 3 Stel dat max. 10 % kritische deeltjes/m2 toegestaan zijn. 10log(Nd*dk/A), Nd=0,1: Mechanisch deel: Nd*dk/A = 0,1*50/10-4= 5*104 -> SCP 4,7 Optische deel kleiner 0,1*10/(4*10-5) = 2,5*104 -> SCP 4,4 Sensor deel 0,1*1/(2*10-5)= 5*103 -> SCP 3,7 3 oktober2011 10 maart 2008 CGC Koos Agricola Koos Agricola 17 Minimale VCCN Deeltjes- Neerslag Klasse De deeltjesneerslag is de verandering van oppervlakte reinheid per dm2 per blootstellinguur DNK = (10 SCP-10SCP0)/(A*t), A in dm2 -> (10 SCP-4-10SCP0-4)/(A*t); M: DNK = (104,7-4-103-4)/(0,01*2,5) = M: DNK = (100,7-10-1)/(0,01*2,5) = 200 O: DNK = (100,4-10-1)/(0,004*2) = 300 S: DNK = (10-0,3-10-1)/(0,002*1) = 200 10 maart 2011 Koos Agricola 18
  • 10. Benodigde cleanroom Mechanische delen: ISO 9 en DNK 200, Schone werkwijze het belangrijkst Optische deel: ISO 7 en DNK 300, Combinatie verdunning cleanroom en werkwijze Sensor deel: ISO 6 en DNK 200, Combinatie lokale verdringing cleanroom en werkwijze Door verkorting blootstellingtijd kan hogere DNK toegestaan worden. 10 maart 2011 Koos Agricola 19 Maatregelen om het product te beschermen Afhankelijk van gevoeligheid product en procesomstandigheden: Gevoelig voor vallende deeltjes Oppervlaktereinheid Aantal personen, kleding en discipline Blootstellingtijd * grootte oppervlak Ook gevoelig voor zwevende deeltjes Concentratie in de lucht (cleanroom ACP klasse) 10 maart 2011 Koos Agricola 20
  • 11. Noodzaak van een cleanroom Deeltjes 25 袖m: ISO 9 + ISO 5 cleanroom werkwijzen Deeltjes 5 袖m: ISO 7, 8 cleanroom Deeltjes 1 袖m: ISO 5, 6 cleanroom Deeltjes 0,1 袖m: ISO 4 of beter, geen personen Naarmate het product gevoeliger is zullen de eisen voor de oppervlaktereinheid toenemen. 10 maart 2011 Koos Agricola 21 Conclusie Product analyse bepaalt kwetsbaarheid Proces bepaalt kwetsbare plaatsen en momenten Aparte schone ruimte biedt mogelijkheid deeltjes neerslag en contact overdracht te beperken Deeltjes 5, 25 袖m verwijderen door schoonmaken, classificatie oppervlaktereinheid en deeltjesneerslag niveau. Deeltjes 5 袖m verwijderen met luchtbehandeling, classificatie luchtreinheid. Zie artikel maart 2011 nummer VCCN Magazine Zie Strategisch strijden tegen stofdeeltjes (www.vccn.nl) 10 maart 2011 Koos Agricola 22