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局域表面等离激元增强
                       强光发射中银岛膜的制备
                     和光学特
                        特性研究
           严敏逸,马忠元*,王旦清,刘文强 孙红程 李伟 黄信凡 陈坤基
           严敏逸 马忠元
               马忠元* 王旦清 刘文强
                          强,孙红程,李伟,黄信凡,陈坤基
                          强
                南京大学物理系,固体
                南京大学物理系 固体微结构国家重点实验室
研究背景
  近年来,利用表面等离激元(SP)和量子阱的耦合来提高显
  近年来 利用表面等离激元(SP)和量子阱的耦合来提高显
       利用表面等离激元        和量子阱的耦合来提高显  显示器件和固态光源的效率受到了广泛的关注。作为对金属表
                                    显示器件和固态光源的效率受到了广泛的关注 作为对金属表
面电子集体振荡行为的描述,SPs分为表面等离极化激元(SPP)和局域表面等离激元(LSP),它们的渐逝场和有源层的耦合
面电子集体振荡行为的描述 SP 分为表面等离极化激元(SPP)和局域表面等离激元(LSP) 它们的渐逝场和有源层的耦合
为光发射效率的提高提供了一条有效的途径。我们小组在掺氧氮
为光发射效率的提高提供了 条有效的途径 我们小组在掺氧氮
                   条有效的途径。我们小组在掺氧氮  氮化硅(a
                                    氮化硅(a-SiN:O)薄膜中发现的新发光组态,其光致发光峰位
                                    氮化硅( SiN:O)薄膜中发现的新发光组态,其光致发光峰位
                                               )薄膜中发现的新发光组态 其光致发光峰位
可调,位于450 nm至600 nm之间 如果在以 SiN:O为有源层的LED结构中引入LSP 将有利 进 步提高硅基黄绿波段
可调 位
   位于450   至    nm之间。如果在以a
                  之间 如果在以a-SiN:O为有源层的LED结构中引入LSP,将有利于进 步提高硅基黄绿波段LED器
                                为有  的   结构中引     将有利于进一步提高硅基黄绿波段LED器
件的光发射效率。
件的光发射效率

实验和结果
                                          II.
                                          II 表面形貌
                                                貌和光学特性
 I. 实 方法
 I 实验方法
                                               a) SEM表征 生
                                                        生长厚度为10 nm的
     以石英和p Si为衬底,采用电子束
     以石英和p-Si为衬底,采用电子束
     以石英和 Si为衬底 采用电子束                          样品的SEM图像 像如右图所示,随
                                                        像如右图所示 随                                             a                        b
     蒸发的方法在室温下生长厚度分别                           着退火温度的  的升高,总体趋势
                                                       的升高,总体趋势一
                                                       的升高 总体趋势
     为10 nm、20
     为 nm 20 nm和30 nm的银膜 在
                和    nm的银膜,在
                       的银膜                     致表现为金属  属颗粒尺寸的变大和
     200 ℃ 300 ℃ 400 ℃和500 ℃
         ℃、300 ℃、400                           间距的增加。其中,300 ℃以上
                                               间距的增加 其中
     下通过氮气保护对样品进行30分钟                          退火的变化极  极为显著。
                                                       极为显著
     的常规热退火处理。
     的常规热退火处理                                                                                                c                        d
                                                                                        p-Si衬底上厚度为10 nm的银膜经不同温度常规热退火处理后的SEM图像
                                                                                        p Si衬底上厚度为10
                                                                                                 (a) 200 ℃ (b) 300 ℃ (c) 400 ℃ (d) 500 ℃




                                   a                                              b                                               c
                                                           常规热退火处理后的吸收谱 (a) 10 nm (b) 20 nm (c) 30 nm
                          石英衬底上厚度为10 nm、20 nm和30 nm的银膜经不同温度常

 b) 石英衬底上的光学特性 对于不同的生长厚度 随着退火温
                  对于不同的生长厚度,随着退火温
                                温度的上升,长波段吸收峰位变化趋势相同:先红移,后蓝
                                温度的上升 长波段吸收峰位变化趋势相同 先红移 后蓝
 移。对应SEM图像,随着颗粒间距的增大,耦合作用减弱,吸收峰位表现出更好的单色性;随着颗粒平行于衬底方向的尺
 移 对应SEM图像 随着颗粒间距的增大 耦合作用减弱 吸收峰位表现出更好的单色性 随着颗粒平行于衬底方向的尺
     对应  图像 随着颗粒间 的增大            收峰位表现出更好的单 性;随着颗粒平行于衬底方向的尺
 寸的增大,吸收峰位 开始表现出红移的特性。长波段吸收峰
 寸的增大,吸收峰位一开始表现出红移的特性。长波段吸收峰
 寸的增大 吸收峰位 开始表现出红移的特性 长波段吸收峰    峰位的变化范围为395 nm至467 nm;对于生长厚度为20 nm和
                                              至467    对于生长厚度为20   和
 30 nm的样品,400 ℃退火后长波段峰位红移最大
      的样品 400 ℃退火后长波段峰位红移最大。

                                                                                                d) a-SiN:O的发光峰位
                                                                                                   a SiN:O的发光峰位




        厚度为30 nm的银膜经400 ℃常规热退火处理后的反              厚度为30 nm的银膜经不同温度常规热退火处理后的
         射谱(石英和p Si衬底)和吸收谱(石英衬底)
         射谱(石英和p-Si衬底)和吸收谱(石英衬底)                          反射谱
                                                            谱(p Si衬底)
                                                            谱(p-Si衬底)

 c) p Si衬底上的光学特性 以石英衬底上的吸收谱和反射谱为
    p-Si衬底上的光学特性                 为参照,通过分析p-
                                 为参照 通过分析p
 Si衬底上的反射谱可得到p-Si衬底上银岛的相关光学性质。与
 Si衬底上的反射谱可得到 Si衬底上银岛的相关光学性质 与
   衬底 的反射谱可得到p    衬底 银岛的相关光学性质 与石英衬底相比 其
                                 与石英衬底相比,其                                                              p Si衬底上a SiN:O薄膜的光致发光谱
                                                                                                        p-Si衬底上a-SiN:O薄膜的光致发光谱
                                                                                                          (a)富氮a-SiN:O (b)富硅a-SiN:O
                                                                                                          ( )富氮 SiN O (b)富硅 SiN O
 长波段峰位变化趋势相同,且总体红移,位于450
 长波段峰位变化趋势相同 且总体红移 位于450 nm至620 nm之间。
                            至620  之间


结论
 根据一般性Maxwell-Garnett理论 我们推算出ITO衬底上 岛的长波
 根据 般性
     般性Maxwell Garnett理论,我们推算出ITO衬底上
                       论  们推算    衬底上
                                   上银岛的长波段吸收峰位于490 nm至579 nm ITO和p-Si
                                   上       收峰             nm。ITO和p Si
 衬底上的长波段峰位与有源层的发光峰位都有较大范围的         的重合。据此,可以针对a-SiN:O薄膜的发光峰位选择银
                                   的重合 据此 可以针对 SiN O薄膜的发光峰位选择银
                                       据此,可以针对       薄膜的发光峰位选择银
 膜的生长和处理条件,以实现LED结构中有源层和LSP之间
 膜的生长和处理条件 以实现LED结构中有源层和LSP之间      间的耦合,提高硅基黄绿波段LED器件的光发射效率。目
                                   间的耦合 提高硅基黄绿波段LED器件的光发射效率 目
 前,PL和EL的测量工作正在进行中。
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                                                 email:?zyma@ j d
                                                    il y @  @nju.edu.cn

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局域表面等离激元增强光发射中银岛膜的制备和光学特性研究

  • 1. 局域表面等离激元增强 强光发射中银岛膜的制备 和光学特 特性研究 严敏逸,马忠元*,王旦清,刘文强 孙红程 李伟 黄信凡 陈坤基 严敏逸 马忠元 马忠元* 王旦清 刘文强 强,孙红程,李伟,黄信凡,陈坤基 强 南京大学物理系,固体 南京大学物理系 固体微结构国家重点实验室 研究背景 近年来,利用表面等离激元(SP)和量子阱的耦合来提高显 近年来 利用表面等离激元(SP)和量子阱的耦合来提高显 利用表面等离激元 和量子阱的耦合来提高显 显示器件和固态光源的效率受到了广泛的关注。作为对金属表 显示器件和固态光源的效率受到了广泛的关注 作为对金属表 面电子集体振荡行为的描述,SPs分为表面等离极化激元(SPP)和局域表面等离激元(LSP),它们的渐逝场和有源层的耦合 面电子集体振荡行为的描述 SP 分为表面等离极化激元(SPP)和局域表面等离激元(LSP) 它们的渐逝场和有源层的耦合 为光发射效率的提高提供了一条有效的途径。我们小组在掺氧氮 为光发射效率的提高提供了 条有效的途径 我们小组在掺氧氮 条有效的途径。我们小组在掺氧氮 氮化硅(a 氮化硅(a-SiN:O)薄膜中发现的新发光组态,其光致发光峰位 氮化硅( SiN:O)薄膜中发现的新发光组态,其光致发光峰位 )薄膜中发现的新发光组态 其光致发光峰位 可调,位于450 nm至600 nm之间 如果在以 SiN:O为有源层的LED结构中引入LSP 将有利 进 步提高硅基黄绿波段 可调 位 位于450 至 nm之间。如果在以a 之间 如果在以a-SiN:O为有源层的LED结构中引入LSP,将有利于进 步提高硅基黄绿波段LED器 为有 的 结构中引 将有利于进一步提高硅基黄绿波段LED器 件的光发射效率。 件的光发射效率 实验和结果 II. II 表面形貌 貌和光学特性 I. 实 方法 I 实验方法 a) SEM表征 生 生长厚度为10 nm的 以石英和p Si为衬底,采用电子束 以石英和p-Si为衬底,采用电子束 以石英和 Si为衬底 采用电子束 样品的SEM图像 像如右图所示,随 像如右图所示 随 a b 蒸发的方法在室温下生长厚度分别 着退火温度的 的升高,总体趋势 的升高,总体趋势一 的升高 总体趋势 为10 nm、20 为 nm 20 nm和30 nm的银膜 在 和 nm的银膜,在 的银膜 致表现为金属 属颗粒尺寸的变大和 200 ℃ 300 ℃ 400 ℃和500 ℃ ℃、300 ℃、400 间距的增加。其中,300 ℃以上 间距的增加 其中 下通过氮气保护对样品进行30分钟 退火的变化极 极为显著。 极为显著 的常规热退火处理。 的常规热退火处理 c d p-Si衬底上厚度为10 nm的银膜经不同温度常规热退火处理后的SEM图像 p Si衬底上厚度为10 (a) 200 ℃ (b) 300 ℃ (c) 400 ℃ (d) 500 ℃ a b c 常规热退火处理后的吸收谱 (a) 10 nm (b) 20 nm (c) 30 nm 石英衬底上厚度为10 nm、20 nm和30 nm的银膜经不同温度常 b) 石英衬底上的光学特性 对于不同的生长厚度 随着退火温 对于不同的生长厚度,随着退火温 温度的上升,长波段吸收峰位变化趋势相同:先红移,后蓝 温度的上升 长波段吸收峰位变化趋势相同 先红移 后蓝 移。对应SEM图像,随着颗粒间距的增大,耦合作用减弱,吸收峰位表现出更好的单色性;随着颗粒平行于衬底方向的尺 移 对应SEM图像 随着颗粒间距的增大 耦合作用减弱 吸收峰位表现出更好的单色性 随着颗粒平行于衬底方向的尺 对应 图像 随着颗粒间 的增大 收峰位表现出更好的单 性;随着颗粒平行于衬底方向的尺 寸的增大,吸收峰位 开始表现出红移的特性。长波段吸收峰 寸的增大,吸收峰位一开始表现出红移的特性。长波段吸收峰 寸的增大 吸收峰位 开始表现出红移的特性 长波段吸收峰 峰位的变化范围为395 nm至467 nm;对于生长厚度为20 nm和 至467 对于生长厚度为20 和 30 nm的样品,400 ℃退火后长波段峰位红移最大 的样品 400 ℃退火后长波段峰位红移最大。 d) a-SiN:O的发光峰位 a SiN:O的发光峰位 厚度为30 nm的银膜经400 ℃常规热退火处理后的反 厚度为30 nm的银膜经不同温度常规热退火处理后的 射谱(石英和p Si衬底)和吸收谱(石英衬底) 射谱(石英和p-Si衬底)和吸收谱(石英衬底) 反射谱 谱(p Si衬底) 谱(p-Si衬底) c) p Si衬底上的光学特性 以石英衬底上的吸收谱和反射谱为 p-Si衬底上的光学特性 为参照,通过分析p- 为参照 通过分析p Si衬底上的反射谱可得到p-Si衬底上银岛的相关光学性质。与 Si衬底上的反射谱可得到 Si衬底上银岛的相关光学性质 与 衬底 的反射谱可得到p 衬底 银岛的相关光学性质 与石英衬底相比 其 与石英衬底相比,其 p Si衬底上a SiN:O薄膜的光致发光谱 p-Si衬底上a-SiN:O薄膜的光致发光谱 (a)富氮a-SiN:O (b)富硅a-SiN:O ( )富氮 SiN O (b)富硅 SiN O 长波段峰位变化趋势相同,且总体红移,位于450 长波段峰位变化趋势相同 且总体红移 位于450 nm至620 nm之间。 至620 之间 结论 根据一般性Maxwell-Garnett理论 我们推算出ITO衬底上 岛的长波 根据 般性 般性Maxwell Garnett理论,我们推算出ITO衬底上 论 们推算 衬底上 上银岛的长波段吸收峰位于490 nm至579 nm ITO和p-Si 上 收峰 nm。ITO和p Si 衬底上的长波段峰位与有源层的发光峰位都有较大范围的 的重合。据此,可以针对a-SiN:O薄膜的发光峰位选择银 的重合 据此 可以针对 SiN O薄膜的发光峰位选择银 据此,可以针对 薄膜的发光峰位选择银 膜的生长和处理条件,以实现LED结构中有源层和LSP之间 膜的生长和处理条件 以实现LED结构中有源层和LSP之间 间的耦合,提高硅基黄绿波段LED器件的光发射效率。目 间的耦合 提高硅基黄绿波段LED器件的光发射效率 目 前,PL和EL的测量工作正在进行中。 前 PL和EL的测量工作正在进行中 email:?zyma@ j d il y @ @nju.edu.cn