�ݺ�ߣ

100 200 300 400 500 600 700 800 900 1000
λ, нм
0
10
20
30
40
50
60
Яркость,
мВт/(мм2
×ср×нм)
70
80
90
100
1100
750 1000 1250 1500 1750 2000 2250 2500 2750 3000
λ, нм
0
1
2
3
4
5
6
Яркость,
мВт/(мм2
×ср×нм)
7
3250
Распределение спектральной яркости
источника излучения XWS для УФ и видимой
части спектра
Спектр источника излучения XWS в ближней
инфракрасной области излучения
Модификация с пропусканием в УФ
Модификация Ozone-Free
XWSплазменный широкополосный источник излучения
ООО "Троицкий инженерный центр"
XWS — плазменный широкополосный источник
излучения с лазерной накачкой.
В источниках XWS излучение даёт плаз-
ма, светящаяся под действием непрерыв-
ного лазерного излучения (оптический
разряд). Эти источники разработаны для
замены традиционных газоразрядных ламп
(ксеноновых, дейтериевых, ртутных) и
светодиодов. По сравнению с ними XWS
имеет более высокую яркость и расширен-
ный спектральный диапазон. Кроме того,
технология плазменных источников излу-
чения позволяет разрабатывать устройства
со специфическими характеристиками для
решения особых задач пользователей.
Основные преимущества:
▪ широкий спектральный диапазон. Источ-
ники излучения XWS доступны в двух
модификациях. Безозоновая модифика-
ция (Ozone-free) излучает в спек-
тральном диапазоне от 240 до 2700 нм,
модификация для расширенной УФ обла-
сти имеет спектральный диапазон от
180 до 2700 нм. Широкий спектральный
диапазон позволяет заменить несколь-
ко газоразрядных источников излуче-
ния;
▪ высокая спектральная яркость;
▪ высокая временная и пространственная
стабильность;
▪ малые размеры излучающего тела рас-
ширяют диапазон использования XWS;
▪ длительное время работы, благодаря
отсутствию износа ламп и электродов.
Принцип работы:
Работа источника излучения XWS основана
на явлении оптического разряда в атмос-
фере ксенона при высоком давлении. Пер-
воначально при высоковольтном электриче-
ском разряде в ксеноне возникает плазма.
Газ в состоянии плазмы поддерживается
сфокусированным излучением непрерывного
лазера. По сравнению с дуговыми лампами,
лазерная плазма обладает более высокой
пространственной и временной стабильно-
стью, более высокой яркостью, позволя-
ет получить меньшие размеры излучающего
тела и значительно увеличить срок работы
источника без необходимости замены ламп.
Контакты: www.trdc.com
e-mail: info@trdc.com
телефон: +7-(495)-122-05-62
Разработка плазменного широкополосного источника
излучения с лазерной накачкой проводилась по ли-
цензии компании ООО «ЭУФ Лабс». На внешнем рынке
адаптацию продукта, продажи и техническую поддерж-
ку проводит компания «ISTEQ» (www.isteq.nl).

65
130
76
85
Ø 24
40
74
100
50
75
120
20
34
25
100
109
47,50
172,5
140
226,5
232,50
250
351
366
42,20
102,20
Области применения:
▪ абсорбционная и флуоресцентная спектроскопия;
▪ микроскопия, в том числе конфокальная и флуорес-
центная;
▪ диагностические системы в микроэлектронике (кон-
троль загрязнений и дефектов);
▪ детекторы в хроматографии, микрофлюидике, лабора-
ториях-на-чипе, цитофлуориметрах и т.д.;
▪ биомедицинские приложения (фотодинамическая тера-
пия, и т.д.);
▪ аддитивные технологии (фотополимеризация и т.д.);
▪ источники искусственного солнечного света.
Спецификация (XWS-65 и XWS-20):
спектральный диапазон:
▪ от 180 до 2500 нм (модификация с УФ);
▪ от 240 до 2500 нм (модификация Ozone-
Free);
спектральная яркость (450-500 нм):
▪ XWS-65: 34 мВт/(мм2
×ср×нм);
▪ XWS-20: 15 мВт/(мм2
×ср×нм);
мощность лазера накачки:
▪ XWS-65: 65 Вт;
▪ XWS-20: 20 Вт;
полная мощность источника излучения:
▪ XWS-65: 40 Вт;
▪ XWS-20: 12 Вт;
размеры излучающего тела источника:
▪ XWS-65: 250×400 μм;
▪ XWS-20: 140×200 μм;
▪ время работы: более 10000 часов;
▪ временная и пространственная стабиль-
ность: СКО 0.25%;
▪ среда в лампе: ксенон;
▪ размеры излучателя: 130×110×74 мм;
▪ размеры блока управления:
▪ 351×172×232 мм;
▪ диаметр выходной апертуры (в базовой
комплектации): 24 мм;
▪ разъём C-Mount для подключения объек-
тивов;
▪ ввод лазерного излучения через опто-
волокно;
▪ опционально вывод излучения через оп-
товолокно;
▪ длина соединения излучателя и кон-
троллера: 1.5 м.
Модификация источника излучения XWS-65 с выводом
излучения через оптоволокно
R&D:
Технология сверхъярких плазменных источников излучения с широким спектральным диапазоном может быть
использована во многих приложениях. Технология позволяет проводить адаптацию источников излучения
XWS под потребности пользователей и интегрировать их с различными устройствами и технологическими
линиями. Необходимые изменения вносятся по согласованию с заказчиками.
CLASS 1
LASER PRODUCT

�ݺ�ߣ

XWS плазменный широкополосный источник излучения

Recommended

More Related Content

Viewers also liked (6)

More from Vladislav Troshin (20)

XWS плазменный широкополосный источник излучения